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真空容器内局部位置的真空度测量系统及测量方法

摘要

本发明公开了一种真空容器内局部位置的真空度测量系统及测量方法,该系统包括一端设置在真空容器上的波纹管,波纹管与真空容器之间通过密封法兰进行真空密封,真空规设置在波纹管的另一端,并根据真空规的具体接口进行密封,真空规的引线穿过波纹管引出到真空容器外,通过移动设置真空规的波纹管一端,至待测量真空度的位置,并通过真空规进行该位置真空度的测量。本发明由于通过将真空规放入真空容器内进行测量,能够完成局部位置的真空度测量,此外,测量系统结构简单、规模小,对现有的真空规不要求改动,易于实现。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-11-13

    授权

    授权

  • 2012-07-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01L 21/00 申请日:20101025

    实质审查的生效

  • 2012-05-16

    公开

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