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一种基于模式搜索法光刻配置参数的优化方法

摘要

本发明提供一种基于模式搜索法光刻配置参数的优化方法,具体步骤为:确定优化光刻配置参数以及光刻性能综合评价函数;在给定的所搜方向上更新一维搜索范围,在一维搜索范围内进行一维搜索,获取最小光刻性能综合评价函数对应的光刻配置参数点;获取新的一维搜索方向并进行一维搜索,获取最小光刻性能综合评价函数对应的光刻配置参数点;当循环次数达到最大或满足精度要求时,则结束优化。本发明统筹考虑各种光刻评价指标,通过构造具有多种光刻性能评价指标的评价函数,实现对优化结果进行评价,因此使得优化后的光刻配置参数可实现很好的光刻性能。

著录项

  • 公开/公告号CN102360171B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201110353960.2

  • 发明设计人 李艳秋;郭学佳;

    申请日2011-11-09

  • 分类号

  • 代理机构北京理工大学专利中心;

  • 代理人李爱英

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-10

    授权

    授权

  • 2012-04-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20111109

    实质审查的生效

  • 2012-02-22

    公开

    公开

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