首页> 中国专利> 一种激光诱导等离子体注入基材的方法及装置

一种激光诱导等离子体注入基材的方法及装置

摘要

本发明涉及一种激光诱导等离子体注入工件的方法和装置,涉及离子注入装置和离子注入材料加工技术领域。激光器激发的高能短脉冲强激光冲击到金属箔上,金属箔吸收高能短脉冲激光能量瞬间气化、电离,产生高温等离子体,等离子体由金属离子、电子和不带电的原子构成,等离子吸收后续激光能量膨胀爆炸,等离子体爆炸过程中,电子与接负电位的工件之间的相斥力使电子背离工件运动,正电荷板中和一部分电子,正价金属离子与负电位工件之间的相吸力使金属离子朝着工件运动,在等离子体膨胀爆炸形成的冲击波作用和电场的吸引作用的叠加下,以极大的速度打在工件表面,完成金属离子注入。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-30

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/317 授权公告日:20130619 终止日期:20160511 申请日:20110511

    专利权的终止

  • 2015-12-16

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/317 变更前: 变更后: 申请日:20110511

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2015-01-07

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/317 变更前: 变更后: 申请日:20110511

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-06-19

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/317 申请日:20110511

    实质审查的生效

  • 2011-10-05

    公开

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