法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-07-10
授权
授权
2011-03-23
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090210
实质审查的生效
2011-02-09
公开
公开
机译: 使用极端紫外线辐射并具有包括吸气剂材料的挥发性有机化合物吸收构件的光刻设备
机译: 作为极端的紫外线放射线,使用具有包含吸气材料的挥发性有机化合物吸收成分的光刻装置。
机译: 使用极端紫外线辐射并具有挥发性有机化合物的光刻设备,其吸气部件包含吸气材料