首页> 中国专利> 一种可自激发产生负离子的全抛釉瓷质砖及其制造方法

一种可自激发产生负离子的全抛釉瓷质砖及其制造方法

摘要

本发明公开了一种可自激发产生负离子的全抛釉瓷质砖及其制造方法,通过在现有的全抛釉瓷质砖的全抛釉中加入负离子材料成分,全抛釉经过高温烧成后具有高透明、高光泽、高耐磨、气孔率低、防污性能好的特点,且具有激发空气中水蒸汽形成负氧离子的功能。所述全抛釉瓷质砖可广泛用于家庭和各种工程装饰,用于浴室效果更为明显。在空气湿度较大的环境中,该负离子全抛釉可以更有效激发水蒸汽形成有益于人体健康的负离子。

著录项

  • 公开/公告号CN102515875B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-06-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东金意陶陶瓷有限公司;

    申请/专利号CN201110441548.6

  • 发明设计人 黄惠宁;张国涛;戴永刚;孟庆娟;

    申请日2011-12-26

  • 分类号C04B41/89(20060101);C04B41/86(20060101);

  • 代理机构44268 深圳市君胜知识产权代理事务所;

  • 代理人刘文求;杨宏

  • 地址 528031 广东省佛山市禅城区石湾小雾岗

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-18

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C04B41/89 变更前: 变更后: 申请日:20111226

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-02-22

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C04B41/89 变更前: 变更后: 申请日:20111226

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-02-22

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C04B 41/89 变更前: 变更后: 申请日:20111226

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-06-12

    授权

    授权

  • 2013-06-12

    授权

    授权

  • 2012-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B41/89 申请日:20111226

    实质审查的生效

  • 2012-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 41/89 申请日:20111226

    实质审查的生效

  • 2012-06-27

    公开

    公开

  • 2012-06-27

    公开

    公开

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