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小尺寸CMOS图像传感器像素结构及生成方法

摘要

本发明涉及金属互补氧化物半导体固态图像传感器。为提供一种小尺寸的CMOS图像传感器像素的光电二极管结构,使得优化后的小像素单元可以在不增大暗电流的情况下增加满阱容量,从而间接增大动态范围、信噪比等,完成小像素下像素单元的优化设计,为达到上述目的,本发明采取的技术方案是,小尺寸CMOS图像传感器像素结构,像素光电二极管是由在P型外延层上注入一个较浅的N型区域埋层构成,N型区域是一个开口向左、由同型扩散系数较大的杂质构成的U型埋层结构,U型埋层结构中间位置是扩散系数较小的同型杂质;扩散系数较大的杂质注入层将扩散系数较小的杂质注入层全部包埋。本发明主要应用于CMOS固态图像传感器的设计制造。

著录项

  • 公开/公告号CN102683372B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201210143666.3

  • 申请日2012-05-10

  • 分类号

  • 代理机构天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人刘国威

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-22

    授权

    授权

  • 2012-11-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/146 申请日:20120510

    实质审查的生效

  • 2012-09-19

    公开

    公开

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