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防镀膜影响的外部检出装置及溅镀装置

摘要

一种防镀膜影响的外部检出装置,其装设于一溅镀装置腔体的两个成对的玻璃窗口,其包含一发射器以及一接收器,分别置于该腔体外部且与该玻璃窗口位置对应,该玻璃窗口包含两个防镀管置于该腔体内并分别遮蔽两个该玻璃窗口,该发射器发射一输出光进入该腔体而经由两个防镀管及至该接收器;该防镀管可以在溅镀装置于溅镀制程中,提供对应的玻璃窗口有效的遮蔽,使材料粒子不会镀制于该玻璃窗口上,故提升溅镀装置的使用便利性并可降低维护成本。

著录项

  • 公开/公告号CN101930084B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 友威科技股份有限公司;

    申请/专利号CN200910149501.5

  • 申请日2009-06-25

  • 分类号G01V8/12(20060101);C23C14/34(20060101);C23C14/56(20060101);C23C14/54(20060101);C23C14/52(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王雪静;逯长明

  • 地址 中国台湾桃园县

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-15

    授权

    授权

  • 2011-04-06

    发明专利申请更正 卷:26 号:52 页码:扉页 更正项目:发明人 误:刘忠炯|蔡明展|赖青华|黄泰源|魏木元|朴威辰 正:刘忠炯|蔡明展|赖青华|黄泰源|魏木元|林威辰 申请日:20090625

    发明专利更正

  • 2011-04-06

    发明专利公报更正 卷:26 号:52 IPC(主分类):G01V0008120000 更正项目:发明人 误:刘忠炯|蔡明展|赖青华|黄泰源|魏木元|朴威辰 正:刘忠炯|蔡明展|赖青华|黄泰源|魏木元|林威辰 申请日:20090625

    发明专利更正

  • 2011-02-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01V 8/12 申请日:20090625

    实质审查的生效

  • 2010-12-29

    公开

    公开

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