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一种降噪声学超构点阵材料及其制备方法和应用

摘要

本发明涉及声学超材料制备技术领域,具体涉及一种降噪声学超构点阵材料及其制备方法和应用。本发明提供一种降噪声学超构点阵材料,包括:基体材料和位于基体材料内部的散射体,所述散射体包括第一散射体和第二散射体;所述第一散射体和所述第二散射体交叉设置,且所述第一散射体和所述第二散射体二者形成30度至90度的夹角。本发明提供的降噪声学超构点阵材料具有更好的低频降噪性能,在100Hz‑500Hz低频降噪性能可达40dB以上。

著录项

  • 公开/公告号CN116741132A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023-09-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202310604735.4

  • 发明设计人

    申请日2023-05-25

  • 分类号G10K11/162;C08K5/5425;C08K5/14;C08K5/053;C08L83/07;

  • 代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司;

  • 代理人周雷

  • 地址 102209 北京市昌平区未来科技城滨河大道18号

  • 入库时间 2024-04-18 19:56:50

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