一种过渡性膜层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种过渡性膜层及其制备方法，过渡性膜层生长于底层镀膜基材上，所述过渡性膜层为所述底层镀膜基材与上层目标膜层的过渡层，所述过渡性膜层为铁基膜。本发明通过在不兼容的底层镀膜基材和上层目标膜层之间引入中间过渡性膜层，利用过渡性膜层和底层镀膜基材以及上层目标膜层均兼容的特点，克服了上层目标膜层在这些底层镀膜基材上生长不良的问题，解决了现有技术中在高铝、高镍、高铜等基材上进行硅材膜镀膜时，硅材膜生长不良的问题。