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干涉测量方法和干涉测量系统

摘要

一种用于以干涉测量方式确定测试对象的光学表面形状的测量方法通过测量系统来执行,测量系统包括照明模块和多个光学部件,照明模块用于在照明模块的光源平面中产生有效光源,多个光学部件包括准直器、透明参考元件和分束器。检测器检测测量波和参考波的叠加。测量方法包括测量测试对象的表面,以及评估波前。评估包括以下步骤:识别干涉仪表面,干涉仪表面是在测量期间至少使用一次的测量系统的光学部件之一的光学有效表面;确定表面相关的相干波前扰动,并将每个波前扰动分配给测量系统的一个干涉仪表面上的扰动结构;通过从测量的波前中减去表面相关的相干波前扰动的表面特定的减法,确定校正了相干波前扰动的波前;评估校正的波前。

著录项

  • 公开/公告号CN117685872A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2024-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;

    申请/专利号CN202311174735.1

  • 发明设计人

    申请日2023-09-11

  • 分类号G01B9/02;G01B9/02015;G01B9/02056;G01B9/02055;G01M11/02;G01B11/24;G01B9/021;G01B11/255;G01M11/00;G01B11/02;G02B5/18;G01B11/30;G02B19/00;G01J9/02;G03F7/20;G03H1/02;G03H1/22;G02B5/08;G02B5/10;G02B5/32;

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人王蕊瑞

  • 地址 德国上科亨

  • 入库时间 2024-04-18 19:41:23

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