公开/公告号CN115578940A
专利类型发明专利
公开/公告日2023-01-06
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司;
申请/专利号CN202211252803.7
申请日2022-10-13
分类号G09F9/302;
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司;
代理人黄锐
地址 518132 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
入库时间 2023-06-19 18:13:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-06
公开
发明专利申请公布
机译: 汽相沉积掩模,汽相沉积掩模组,汽相沉积掩模组制造方法,汽相沉积掩模组制造方法和显示装置制造方法
机译: 使用DIMM模组和偏置模组以及平行板DIMM模组显示结构
机译: 显示装置,掩模组件,制造掩模组件的方法,用于制造显示装置的装置,以及制造显示装置的方法