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氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用

摘要

本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域,具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈,且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核,外壳为氧化铈包覆层。由本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒配制成的抛光液对超大规模集成电路玻璃、二氧化硅介质层和STI进行抛光,可以提高抛光去除率和抛光选择比,减少抛光缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN101818047B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-04-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海新安纳电子科技有限公司;

    申请/专利号CN201010106871.3

  • 发明设计人 张泽芳;刘卫丽;宋志棠;

    申请日2010-02-08

  • 分类号C09K3/14(20060101);C09G1/02(20060101);H01L21/3105(20060101);H01L21/762(20060101);B24B7/24(20060101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所;

  • 代理人许亦琳;余明伟

  • 地址 201506 上海市金山工业区天工路285弄2幢

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-04-24

    授权

    授权

  • 2012-06-06

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C09K 3/14 变更前: 变更后: 登记生效日:20120427 申请日:20100208

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-10-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20100208

    实质审查的生效

  • 2010-09-01

    公开

    公开

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