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一种光固化低聚物、其制备方法及含有该低聚物的光固化涂料

摘要

本发明属于高分子材料技术领域,具体地说,涉及一种光固化低聚物、其制备方法及含有该低聚物的光固化涂料。该种光固化低聚物结构为以脲基基团为交联点、聚氧乙烯醚为主链段的脲基丙烯酸酯。低聚物具有低黏度、高速固化、有特殊功能等优点,针对部分基材难以附着的特点,在PMMA、聚砜、聚苯乙烯上均有较好的附着力,可应用在难附着基材的防雾、防污、减阻、润湿等领域。

著录项

  • 公开/公告号CN115521452A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉中科先进材料科技有限公司;

    申请/专利号CN202210559327.7

  • 申请日2022-05-23

  • 分类号C08G65/333;C09D171/02;

  • 代理机构武汉高得专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈挥秀

  • 地址 430000 湖北省武汉市经济技术开发区201M地块华人汇和科技园(华中智谷)一期F10研发楼1-2层

  • 入库时间 2023-06-19 18:04:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-27

    公开

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