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将施主材料沉积在目标表面上的受控沉积方法及用于其的板

摘要

本文提供了一种将施主材料(2)沉积到目标表面(51)上的方法,其中,用能够伸缩的层(4)覆盖基板(10)的第一主面(11),该能够伸缩的层(4)是利用围绕该第一主面上的围合区域(13)的密封件(43)而附接到第一主面上的,由此限定了围合体(6)。该能够伸缩的层(4)具有背离该基板并且图案化有一个或多个凹陷区域(42a,……,42e)的外表面(41),其中,该一个或多个凹陷区域填充有待沉积的施主材料(2)。在该围合体(6)的内部(61)中提供相对高的压力,使得它的体积(V61)增大,并且将该能够伸缩的层(4)的图案化表面(41)压向该目标表面(51)。在该能够伸缩的层(4)的那个状态下,在与该基板的第一主面(11)相对的第二主面(12)处,利用光子辐射照射该基板,该光子辐射具有使施主材料(2)从该一个或多个凹陷区域(42a,……,42e)转移到该目标表面(51)的强度和持续时间。还提供了板(1)和沉积装置(100)。

著录项

  • 公开/公告号CN115517025A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-12-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 荷兰应用自然科学研究组织TNO;

    申请/专利号CN202180033560.5

  • 发明设计人 罗伯·雅各布·亨德里克斯;

    申请日2021-04-01

  • 分类号H05K3/04;H05K3/14;

  • 代理机构北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人李雪;姚开丽

  • 地址 荷兰海牙

  • 入库时间 2023-06-19 18:03:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-23

    公开

    国际专利申请公布

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