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绿光发光二极管外延片及其制备方法、绿光发光二极管

摘要

本发明公开了一种绿光发光二极管外延片及其制备方法、绿光发光二极管,涉及半导体光电器件领域。绿光发光二极管包括衬底和依次设于所述衬底上的缓冲层、本征GaN层、N型GaN层、有源层、电子阻挡层和P型GaN层,所述有源层包括多个交替层叠的量子阱层和量子垒层;每个所述量子阱层包括多个InN纳米棒和包裹于所述InN纳米棒上的InGaN包覆层。实施本发明,可提升绿光发光二极管的发光效率、波长均匀性。

著录项

  • 公开/公告号CN115458651A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-12-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西兆驰半导体有限公司;

    申请/专利号CN202211417303.4

  • 申请日2022-11-14

  • 分类号H01L33/06;H01L33/12;H01L33/32;H01L33/00;B82Y30/00;B82Y40/00;

  • 代理机构广州三环专利商标代理有限公司;

  • 代理人李素兰

  • 地址 330000 江西省南昌市高新技术产业开发区天祥北大道1717号

  • 入库时间 2023-06-19 17:53:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-09

    公开

    发明专利申请公布

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