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公开/公告号CN115436989A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-06
原文格式PDF
申请/专利权人 同方威视技术股份有限公司;
申请/专利号CN202110625375.7
发明设计人 赵博震;郭云开;张战强;韦亮军;王雪;张文剑;李树伟;朱维彬;邹湘;于昊;李荐民;
申请日2021-06-04
分类号G01T1/29;
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人王云飞
地址 100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
入库时间 2023-06-19 17:50:01
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-06
公开
发明专利申请公布
机译: 按顺序组成束流密度目标分布的离子注入装置和束流密度分布的控制方法
机译: 能够搜索和调整离子束的电流密度分布数据和离子注入装置的束流密度分布的控制目标设定方法
机译: 带电粒子束和带电粒子束装置的束流强度分布测量方法
机译:多探测器行计算机断层扫描(MDCT)扫描方法和改善碳束分布条件的物理评估
机译:束流强度分布的变换和均匀离子束的非线性聚焦形成
机译:相对论电子束和离子通道的径向分布对离子聚焦模式下束流相互作用强度的影响
机译:脉冲等离子流束流沉积的化学结构和分布特征
机译:使用引导离子束散射和计算方法探测复杂气相系统中的反应动力学。
机译:放射线束中特定于探测器的校正因子及其对剂量分布计算的影响
机译:钨酸铅晶体矩阵的束流测试和CMS电磁热量计的硅条预雨水探测器
机译:火箭基础流场研究使用电子束探测器季度进度报告编号。 2,26 sep。 - 十二月二十五日1965年