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公开/公告号CN115398334A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 三井化学株式会社;国立研究开发法人产业技术综合研究所;
申请/专利号CN202180027875.9
发明设计人 小野阳介;石川比佐子;小川亮平;大久保敦;高村一夫;关口贵子;加藤雄一;山田健郎;周英;
申请日2021-04-02
分类号G03F1/62;G03F7/20;
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;
代理人陈彦;李宏轩
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 17:43:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-25
公开
国际专利申请公布
机译: 膜盒框架,膜片及其制造方法,曝光用原版及其制造方法,曝光装置以及半导体装置的制造方法
机译: 极紫外曝光用掩模,极紫外曝光用掩模坯料,极紫外曝光用掩模的制造方式以及多层膜
机译:三井化学EUV防护膜业务用于下一代半导体曝光工艺与ASML的许可协议
机译:通过在介入放射学中使用新开发的辐射防护装置,操作员的辐射防护和减少辐射曝光:从技术角度来看
机译:人和牛牙上形成的牙釉质防护膜的蛋白质组学分析:使用Bauru原位防护膜模型(BISPM)的研究
机译:防护膜对FPD i线单波长曝光的影响
机译:膜曝气生物膜反应器中生物膜厚度的数学建模。
机译:假单胞菌防护膜在消毒剂测试中的应用:电子显微镜防护膜去除以及对测试结果的影响。
机译:不同四氟化物对无防护膜和防护膜覆盖的牙釉质和牙本质腐蚀的保护作用
机译:联邦测试方法标准号791C方法5331.1的修改'钢膜对固体膜润滑剂的亚硫酸盐喷雾的腐蚀防护'。