公开/公告号CN115308540A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-08
原文格式PDF
申请/专利权人 中国电力科学研究院有限公司;国网河南省电力公司电力科学研究院;
申请/专利号CN202111522673.X
申请日2021-12-13
分类号G01R31/12;G01N29/04;G01N29/28;
代理机构北京工信联合知识产权代理有限公司;
代理人夏德政
地址 100192 北京市海淀区清河小营东路15号
入库时间 2023-06-19 17:28:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-08
公开
发明专利申请公布
机译: 具有光掩模缺陷分析装置的多面体,缺陷分析方法以及存储该缺陷分析程序的存储介质
机译: 缺陷分析装置,基板处理系统,缺陷分析方法和计算机可读存储介质
机译: 缺陷分析装置,基质处理系统,缺陷分析方法和计算机可读存储介质