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公开/公告号CN115268092A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-01
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨工业大学;
申请/专利号CN202210939141.4
发明设计人 于祥燕;杨振;刘莹莹;王玉龙;郑晓刚;闫晶;
申请日2022-08-05
分类号G02B27/09;G02B27/00;B08B7/00;
代理机构北京圣州专利代理事务所(普通合伙);
代理人李志强
地址 150060 黑龙江省哈尔滨市香坊区哈平路239号
入库时间 2023-06-19 17:22:26
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-01
公开
发明专利申请公布
机译: 激光斑点对比成像系统,激光斑点对比成像方法和包括该激光斑点对比成像系统的设备
机译: 激光斑点对比度成像系统,激光斑点对比度成像方法以及包括该激光斑点对比度成像系统的装置
机译: 聚焦深度扩展成像光学系统,聚焦深度扩展元件和成像设备
机译:优化焦深和光斑尺寸以进行UV激光烧蚀的设计
机译:通过焦深功能设计的长焦深镜头的焦深特性
机译:使用光子纳米(第3报告)加工特性的激光纳米加工的研究长焦深度特征
机译:纳米级激光光斑的生产及其应用
机译:重新设计激光斑点对比分析算法增强皮肤微循环的非侵入性高分辨率激光斑点功能成像
机译:Axiparabola:用于宽带高强度激光器的长焦深,高分辨率镜
机译:超长衰减含空隙的介质,用于非常长的波长