法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-11
公开
发明专利申请公布
机译: 用于照相照相术的盐,一种能够提供准确的光致抗蚀剂图案的光致抗蚀剂组合物以及一种光致抗蚀剂图案的制造方法
机译: 涂层基质,一种光致抗蚀剂图像形成方法以及一种防反光的组合物,该组合物可以与过量涂层的光致抗蚀剂组合使用,从而可以提高图案化的光致抗蚀剂图像的分辨率
机译: 包含基于蒽的单体的重复单元的光致抗蚀剂聚合物,包含该聚合物的光致抗蚀剂组合物,使用该组合物的光致抗蚀剂图案的形成方法以及通过该方法制备的半导体装置