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公开/公告号CN115151989A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-10-04
原文格式PDF
申请/专利权人 东丽株式会社;
申请/专利号CN202180016339.9
发明设计人 辰喜利海;大仓正寿;
申请日2021-03-25
分类号H01G4/32;H01G4/33;B32B27/00;C08J5/18;H01G4/18;B32B7/02;B32B7/027;C08J7/04;
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人李渊茹;段承恩
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 17:02:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-04
公开
国际专利申请公布
机译: 薄膜电容器,薄膜电容器金属层层叠膜,以及薄膜电容器
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机译:高性能金属-绝缘体-金属电容器用BaTi_4O_g薄膜
机译:高密度金属-绝缘子-金属电容器用氟等离子体处理的氧化Ha薄膜的物理和电学特性
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机译:通过将聚偏二氟乙烯-三氟乙烯-氯氟乙烯与芳族聚硫脲共混来获得高能量密度薄膜电容器的所有聚合物介电薄膜
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