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大功率半导体激光二极管

摘要

半导体激光二极管,特别是具有大光输出功率的单片式宽发射域(BASE)激光二极管,通常用在光电子学领域。这种激光二极管的光输出功率和稳定性受到很大关注,并且在正常使用过程中的任何恶化都是非常不利的。本发明关注这种激光二极管的改进设计,特别是对通过以规定方式控制激光二极管中的电流来显著最小化或避免在非常大光输出功率时的(前)端部恶化的改进。这通过沿着激光二极管的纵向延伸方向建立各个电流注入点来以新颖的方式控制进入激光二极管的载流子注入,即注入电流而实现。而且,每个单个或成组电流注入点的供给电流/电压可以分别调节,从而进一步提高载流子注入的可控性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-06

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01S 5/20 变更前: 变更后: 申请日:20060628

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-08-06

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01S 5/20 变更前: 变更后: 申请日:20060628

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-08-06

    专利权的转移 IPC(主分类):H01S 5/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20140714 申请日:20060628

    专利申请权、专利权的转移

  • 2014-08-06

    专利权的转移 IPC(主分类):H01S 5/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20140714 申请日:20060628

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-03-27

    授权

    授权

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-02

    公开

    公开

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