公开/公告号CN115056594A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-09-16
原文格式PDF
申请/专利权人 大日本印刷株式会社;
申请/专利号CN202210531810.4
申请日2018-02-16
分类号B44C1/17;B41M5/382;B41M5/41;B41M5/42;B41M5/44;B41M5/50;B41M5/52;B41J2/00;B41J2/325;B32B7/12;B32B7/06;B32B27/32;B32B27/00;B32B27/08;
代理机构北京三友知识产权代理有限公司;
代理人崔立宇;庞东成
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 16:49:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-09-16
公开
发明专利申请公布
机译: 增亮膜的转印材料,转印材料的制造方法,增亮膜,使用转印材料的光学片构件的制造方法以及光学片构件
机译: 增亮膜的转印材料,转印材料的制造方法,增亮膜,使用转印材料的光学片构件的制造方法以及光学片构件
机译: 纳米薄膜转印片,纳米薄膜转印片的制造方法以及纳米薄膜层向被粘物的转印方法