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真空处理装置和使用该真空处理装置的真空处理方法

摘要

本发明涉及一种真空处理装置和使用该真空处理装置的真空处理方法。一种真空处理装置,包括:沿着第一方向依次布置的多个传送室;沿着垂直于所述第一方向的第二方向连接到所述多个传送室的多个处理室;以及连接到所述多个传送室中的第一传送室的位置转换室。所述多个传送室各自包括旋转运动台,所述旋转运动台被配置用以围绕垂直于所述第一方向和所述第二方向的旋转轴线旋转,并且用以沿着由所述第一方向和所述第二方向形成的平面移动。

著录项

  • 公开/公告号CN115020275A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;株式会社爱发科;

    申请/专利号CN202210202538.5

  • 申请日2022-03-03

  • 分类号H01L21/67;C23C14/04;C23C14/34;C23C14/56;C23C16/04;C23C16/54;

  • 代理机构北京德琦知识产权代理有限公司;

  • 代理人张红霞;周艳玲

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 16:41:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-06

    公开

    发明专利申请公布

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