一种用于给CMP工艺供应稳定SLURRY研磨液的装置

摘要

Slurry(CMP研磨液)是晶圆表面平坦化工艺中的研磨材料和化学添加剂的混合物，Slurry主要是由研磨剂(Abrasive)、表面活性剂、PH缓冲胶、氧化剂和防腐剂等成分组成。Slurry是CMP工艺的关键要素之一，其性能直接影响晶圆抛光后表面的质量。本发明是一种用于给CMP工艺机台端供应稳定SLURRY研磨液的装置，为整个工艺过程提供流量稳定，温度，电导率，不间断的Slurry研磨液，保证整个工艺过程的稳定性。设备包括一个精抛液储液桶，一个粗抛液储液桶，两个气动隔膜泵，两个过滤器，两个冷凝器，一个加热器，一个温度传感器，一个电导率传感器，一桶KHO液体，一台PLC可编程控制器，一台HMI人机界面触摸屏，若干电磁气动阀和压力传感器组成。储液桶分为精抛液桶和粗抛液桶，分别为CMP工艺在不同需求下提供Slurry液体，储液桶下方管道与隔膜泵相连，泵提供压力将液体送至CMP工艺机台端，精抛液供应无回收，粗抛液循环回收，粗抛液循环与回收时，过滤器将管道中的Slurry液体过滤后回收至储液桶。