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用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统

摘要

本发明涉及图像处理和暗场显微成像疵病检测技术领域,具体而言,涉及用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统。包括如下步骤:计算图像的RMSE值,并根据疵病的有效容差范围,确定有效RMSE;当RMSE值大于或等于有效RMSE时,依次对图像进行伽马变换以及灰度调节处理,直至RMSE值小于有效RMSE,得到校正后的图像;基于校正后的图像进行疵病检测。本发明所提供的用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统,通过伽马变换增强物体轮廓信息,通过灰度调节抑制衍射旁瓣的影响,以此改善成像质量,提高疵病检测精度,可有效地减少聚焦透镜像差对疵病检测的影响。

著录项

  • 公开/公告号CN114878583A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 四川大学;

    申请/专利号CN202210798189.8

  • 申请日2022-07-08

  • 分类号G01N21/88(2006.01);G06T5/00(2006.01);G06T7/00(2017.01);

  • 代理机构成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217;

  • 代理人潘育敏

  • 地址 610065 四川省成都市一环路南一段24号

  • 入库时间 2023-06-19 16:20:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-20

    授权

    发明专利权授予

  • 2022-08-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/88 专利申请号:2022107981898 申请日:20220708

    实质审查的生效

  • 2022-08-09

    公开

    发明专利申请公布

说明书

技术领域

本发明涉及图像处理和暗场显微成像疵病检测技术领域,具体而言,涉及用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统。

背景技术

暗场显微成像技术可以实现光学元件表面及内部微小瑕疵的检测,是确保元件高质量、辅助加工工艺改善的有效手段;利用高数值孔径透镜聚焦光束可获得小尺寸的聚焦光斑,获得更窄的激励点扩展函数,从而提高检测分辨率;在暗场显微成像中,聚焦透镜存在像差时会使聚焦光斑产生畸变,而当畸变的光斑照明物体时会造成成像图中物体轮廓信息缺失的现象。

目前,在暗场显微成像中,对暗场成像图的图像处理很少考虑成像图中物体轮廓信息缺失的情形。显微物镜存在像差以及聚焦透镜存在像差是造成暗场成像图中物体轮廓信息缺失与畸变的主要原因。目前对于暗场成像图像差的校正主要针对显微物镜的像差校正,而针对聚焦透镜存在像差而导致成像图中物体轮廓信息缺失情形的研究较少。

此外,对由于光照不均匀导致成像质量与检测精度降低的图像校正,主要针对缺失信息的补全,但暗场检测通过接收散射光与衍射光进行成像,因此成像图中存在衍射旁瓣,而在对成像图中信息加强的同时,会加强衍射旁瓣的影响。

发明内容

本发明的目的在于提供用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统,通过伽马变换增强物体轮廓信息,通过灰度调节抑制衍射旁瓣的影响,以此改善成像质量,提高疵病检测精度,可有效地减少聚焦透镜像差对疵病检测的影响。

本发明的实施例通过以下技术方案实现:用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法,包括如下步骤:

计算图像的RMSE值,并根据疵病的有效容差范围,确定有效RMSE;

当RMSE值大于或等于有效RMSE时,依次对图像进行伽马变换以及灰度调节处理,直至RMSE值小于有效RMSE,得到校正后的图像;

基于校正后的图像进行疵病检测。

根据一种优选实施方式,所述计算图像的RMSE值,表达式如下:

上式中,M与N表示图像的像素点,I(i,j)表示存在像差时的图像,I

根据一种优选实施方式,所述疵病的有效容差范围根据图像的疵病尺寸确定。

根据一种优选实施方式,所述图像的疵病尺寸计算表达式如下:

上式中,L

根据一种优选实施方式,所述伽马变换处理的表达式如下:

上式中,α与γ表示正常数,I

根据一种优选实施方式,所述灰度调节处理的表达式如下:

上式中,I

本发明还提供用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理系统,应用到如上述所述的方法,包括:

计算模块,用于计算图像的RMSE值,并根据疵病的有效容差范围,确定有效RMSE;

图像处理模块,用于当RMSE值大于或等于有效RMSE时,依次对图像进行伽马变换以及灰度调节处理,直至RMSE值小于有效RMSE,得到校正后的图像,基于校正后的图像进行疵病检测。

本发明实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果:本发明所提供的用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统,通过伽马变换增强物体轮廓信息,通过灰度调节抑制衍射旁瓣的影响,以此改善成像质量,提高疵病检测精度,可有效地减少聚焦透镜像差对疵病检测的影响。

附图说明

图1为本发明提供的图像处理方法的流程示意图;

图2为本发明提供的图像处理方法的具体实例过程图;

图3(a)至图3(f)分别为聚焦透镜的球差系数为1λ、1.25λ,像散系数和慧差系数为0.75λ、1λ时的暗场成像图;

图3(g)至图3(l)分别为校正处理后的暗场成像图;

图4为经过伽马变换后的输入和输出图像灰度值关系。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

实施例1

参见图1和图2所示,图1为本发明实施例提供的用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法的流程示意图。

具体地,本发明实施例所提供的用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法,包括如下步骤:

计算图像的RMSE值,需要说明的是,RMSE值指的是均方根误差,均方根误差是预测值与真实偏差的平方与观测次数n比值的平方根;衡量的是预测值与真实值之间的偏差,并且对数据中的异常值较为敏感。

在一种实施方式中,所述计算图像的RMSE值,表达式如下:

上式中,M与N表示图像的像素点,I(i,j)表示存在像差时的图像,I

进一步地,根据疵病的有效容差范围,确定有效RMSE;在一种实施方式中,所述疵病的有效容差范围根据图像的疵病尺寸确定,图像的疵病尺寸利用标准光束测量获得。需要注意的是,若实际需求是测量微米级或纳米级的疵病,则可按疵病尺寸的5%为疵病的有效容差范围。

在一种实施方式中,图像的疵病尺寸计算表达式如下:

上式中,L

本发明基于有效RMSE对进行判断,以此找出低于疵病的有效容差范围对应的暗场图像,即找出RMSE值低于有效RMSE对应的暗场图像,具体如下:当RMSE值大于或等于有效RMSE时,对图像进行伽马变换。

需要说明的是,伽马变换用于图像增强,提升图像的暗部细节,简单来说就是通过非线性变换,让图像从曝光强度的线性响应变得更接近人眼感受的响应,即将曝光或曝光不足的图像进行矫正,本实施例即采用伽马变换增强物体轮廓信息。经过伽马变换后的输入和输出图像灰度值关系参考图4所示,图4中,横坐标为输入灰度值,纵坐标为输出灰度值,曲线a是伽马值小于1时的输入输出关系,曲线b是伽马值大于1时的输入输出关系。可以得到的是,当曲线a中伽马值小于1时,图像的整体亮度值得到提升,同时低灰度处的对比度得到增加,更利于分辨低灰度时的图像细节。

在一种实施方式中,所述伽马变换处理的表达式如下:

上式中,α与γ表示正常数,I

考虑到暗场检测通过接收散射光与衍射光进行成像,因此成像图中存在衍射旁瓣,而在对成像图中信息加强的同时,会加强衍射旁瓣的影响。因此,本发明实施例在通过伽马变换加强图像后,进一步地通过灰度调节,对衍射旁瓣进行抑制,直至RMSE值小于有效RMSE,得到校正后的图像。

在一种实施方式中,所述灰度调节处理的表达式如下:

上式中,I

需要说明的是,灰度调节可调整图像的灰度动态或者图像对比度,强化感兴趣的图像区域,本实施中则用于对衍射旁瓣进行抑制,并强化疵病的图像区域,改善成像质量。

进一步地,基于校正后的图像进行疵病检测,基于上述过程能够实现对暗场图像中轮廓信息缺失的情形进行校正,具体的校正效果参考图4所示,图3(a)至图3(f)分别为聚焦透镜的球差系数A

实施例2

区别于实施例1,本发明实施例提供用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理系统,应用到如上述所述的方法,包括:

计算模块,用于计算图像的RMSE值,并根据疵病的有效容差范围,确定有效RMSE;

图像处理模块,用于当RMSE值大于或等于有效RMSE时,依次对图像进行伽马变换以及灰度调节处理,直至RMSE值小于有效RMSE,得到校正后的图像,基于校正后的图像进行疵病检测。

以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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