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一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置

摘要

本发明公开了一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置,包括基座和位于所述基座顶端的壳体,所述壳体的一侧开口设有密封门,所述密封门为透明材质的塑料或玻璃,所述壳体内设有加工室,所述加工室内设有横向设置的转盘,所述转盘的顶端开设有放物槽,所述基座内的顶端设有驱动电机,所述驱动电机的输出端设有延伸至所述壳体内并与所述转盘相连接的驱动轴。有益效果:通过将密封门设计为透明材质的塑料或玻璃,可能够清楚的观察青瓷上彩的情况,减少发生上彩失败的情况;实现对染料喷头的调节,以达到适应不同尺寸的青瓷,避免染料在加热染料箱内结硬造成喷头的堵塞;而搅拌组件的设计,大大提高搅拌效果。

著录项

  • 公开/公告号CN114800811A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 李林;

    申请/专利号CN202210539460.6

  • 发明设计人 李林;

    申请日2022-05-17

  • 分类号B28B11/04;B01F31/445;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 323000 浙江省丽水市龙泉市小梅镇延庆路088号

  • 入库时间 2023-06-19 16:09:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-29

    公开

    发明专利申请公布

说明书

技术领域

本发明涉及青瓷上彩技术领域,具体来说,涉及一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置。

背景技术

青瓷是中国陶瓷烧制工艺的珍品,作为一种表面施有青色釉的瓷器。青瓷色调的形成,主要是胎釉中含有一定量的氧化铁,在还原焰气氛中焙烧所致。但有些青瓷因含铁不纯,还原气氛不充足,色调便呈现黄色或黄褐色。青瓷以瓷质细腻,线条明快流畅、造型端庄浑朴、色泽纯洁而斑斓著称于世。

瓷装饰材料指的是用来装饰陶瓷制品的各类颜料、贴花纸等材料,其中以釉上装饰颜料为主。然而陶瓷釉上颜料主要是由大量的熔剂和一定量的色料配制而成,传统的贴花纸是将各种颜料按照特定的配色原理同时加上墨油等印刷而成的,现有的青瓷上彩装置大多采用直接对青瓷表面喷涂的方式,这种喷涂方式往往只能对单一型号的青瓷进行喷涂,加工效率较低,且不能很好的对喷涂过程进行观察。

针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

针对相关技术中的问题,本发明提出一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置,以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。

为此,本发明采用的具体技术方案如下:

一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置,包括基座和位于所述基座顶端的壳体,所述壳体的一侧开口设有密封门,所述密封门为透明材质的塑料或玻璃,所述壳体内设有加工室,所述加工室内设有横向设置的转盘,所述转盘的顶端开设有放物槽,所述基座内的顶端设有驱动电机,所述驱动电机的输出端设有延伸至所述壳体内并与所述转盘相连接的驱动轴,所述加工室内且位于所述转盘的上方设有横向设置的活动块,所述活动块的底端设有对称设置的固定块一和固定块二,所述固定块一和所述固定块二相互靠近的一侧分别均设有若干均匀分布的染料喷头一,所述固定块一和所述固定块二通过调节组件与所述活动块相连接;

所述调节组件包括位于所述活动块内的电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的顶端两侧设有对称设置的活动杆一和活动杆二,所述活动杆一和所述活动杆二通过连接轴一与所述电动伸缩杆相连接,所述活动杆一和所述活动杆二相互远离的一侧均设有倾斜设置的斜杆,所述斜杆的顶端设有衔接杆,所述衔接杆为L型结构,且所述衔接杆的直角处设有与所述活动块相连接的连接轴二,所述连接轴二贯穿所述斜杆,所述斜杆的底端设有倾斜设置的连接杆,所述连接杆通过连接轴三与所述活动块相连接,所述连接轴三上设有与所述衔接杆相连接的限位杆,两组所述衔接杆的一端延伸至所述活动块外与所述固定块一和所述固定块二相对应连接;

所述壳体的顶端设有加热染料箱,所述加热染料箱的底端设有与所述染料喷头一相连通的软管,所述加热染料箱内设有搅拌轴,所述搅拌轴上设有若干均匀分布的搅拌叶,所述加热染料箱的顶端设有与所述搅拌轴相连接的搅拌组件。

作为优选的,所述搅拌组件包括位于所述加热染料箱顶端的机壳,所述机壳内设有固定架,所述固定架内设有双轴电机,所述双轴电机的底部输出端设有延伸至所述加热染料箱内并与所述搅拌轴相连接的输出轴,所述双轴电机的顶部输出端上设有蜗杆,所述蜗杆的一侧设有与其相匹配的蜗轮,所述蜗轮的轴心处设有转轴,所述固定架的一侧设有与所述转轴相连接的支架,所述转轴的一端设有摆动杆一,所述摆动杆一的一侧设有与所述机壳相连接的摆动杆二。

作为优选的,所述摆动杆二通过活动轴一分别与所述机壳和所述摆动杆一相连接,所述支架通过轴承与所述转轴相连接。

作为优选的,所述固定架通过连接轴二与所述机壳相连接,且所述摆动杆一和所述摆动杆二均为倾斜设置。

作为优选的,所述斜杆通过连接轴四分别与所述活动杆一、所述活动杆二和所述连接杆相连接,且所述加热染料箱和所述机壳上分别均开设有与所述输出轴相适配的行程槽。

作为优选的,所述加热染料箱内的底端设有滑座,所述滑座的顶端开设有滑轨,所述搅拌轴的底端设有与所述滑轨相匹配的滑块,所述滑块通过轴套与所述搅拌轴相连接。

作为优选的,所述固定块一和所述固定块二的一侧均开设有滑槽,所述滑槽内设有与其相匹配的移动块,所述移动块的一侧设有若干均匀分布的染料喷头二。

作为优选的,所述固定块一和所述固定块二的顶端设有气缸,所述气缸的一端延伸至所述滑槽内并与所述移动块相连接。

作为优选的,所述密封门与所述壳体的连接处设有密封橡胶垫,且所述基座的底端设有底板,所述底板上开设有若干均匀分布的固定孔。

本发明的有益效果为:通过将密封门设计为透明材质的塑料或玻璃,可能够清楚的观察青瓷上彩的情况,减少发生上彩失败的情况;而调节组件与固定块一和固定块二的配合设计,进而调节固定块一与固定块二之间的间距,实现对染料喷头的调节,以达到适应不同尺寸的青瓷,提供装置的普适性;而搅拌轴与加热染料箱的配合设计,能够对加热染料箱内的染料进行搅拌,提高染料稀释性,避免染料在加热染料箱内结硬造成喷头的堵塞;而搅拌组件的设计,使得搅拌轴在加热染料箱内部进行弧形往复的旋转搅拌,大大提高搅拌效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明实施例的一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置的结构示意图;

图2是根据本发明实施例的一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置的剖视图;

图3是根据本发明实施例的一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置中调节组件的结构示意图;

图4是根据本发明实施例的一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置中加热染料箱的结构示意图;

图5是根据本发明实施例的一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置中搅拌组件结构示意图;

图6是根据本发明实施例的一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置中固定块一的侧视图。

图中:

1、基座;2、壳体;3、密封门;4、加工室;5、转盘;6、放物槽;7、驱动电机;8、驱动轴;9、活动块;10、固定块一;11、固定块二;12、染料喷头一;13、电动伸缩杆;14、活动杆一;15、活动杆二;16、连接轴一;17、斜杆;18、衔接杆;19、连接轴二;20、连接杆;21、连接轴三;22、限位杆;23、加热染料箱;24、软管;25、搅拌轴;26、搅拌叶;27、机壳;28、双轴电机;29、蜗杆;30、蜗轮;31、固定架;32、转轴;33、支架;34、摆动杆一;35、摆动杆二;36、滑座;37、滑槽;38、移动块;39、染料喷头二;40、气缸;41、底板。

具体实施方式

为进一步说明各实施例,本发明提供有附图,这些附图为本发明揭露内容的一部分,其主要用以说明实施例,并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理,配合参考这些内容,本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本发明的优点,图中的组件并未按比例绘制,而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。

根据本发明的实施例,提供了一种可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置。

实施例一;

如图1-6所示,根据本发明实施例的可观察青瓷上彩情况的高效青瓷加工用上彩装置,包括基座1和位于所述基座1顶端的壳体2,所述壳体2的一侧开口设有密封门3,所述密封门3为透明材质的塑料或玻璃,所述壳体2内设有加工室4,所述加工室4内设有横向设置的转盘5,所述转盘5的顶端开设有放物槽6,所述基座1内的顶端设有驱动电机7,所述驱动电机7的输出端设有延伸至所述壳体2内并与所述转盘5相连接的驱动轴8,所述加工室4内且位于所述转盘5的上方设有横向设置的活动块9,所述活动块9的底端设有对称设置的固定块一10和固定块二11,所述固定块一10和所述固定块二11相互靠近的一侧分别均设有若干均匀分布的染料喷头一12,所述固定块一10和所述固定块二11通过调节组件与所述活动块9相连接;

所述调节组件包括位于所述活动块9内的电动伸缩杆13,所述电动伸缩杆13的顶端两侧设有对称设置的活动杆一14和活动杆二15,所述活动杆一14和所述活动杆二15通过连接轴一16与所述电动伸缩杆13相连接,所述活动杆一14和所述活动杆二15相互远离的一侧均设有倾斜设置的斜杆17,所述斜杆17的顶端设有衔接杆18,所述衔接杆18为L型结构,且所述衔接杆18的直角处设有与所述活动块9相连接的连接轴二19,所述连接轴二19贯穿所述斜杆17,所述斜杆17的底端设有倾斜设置的连接杆20,所述连接杆20通过连接轴三21与所述活动块9相连接,所述连接轴三21上设有与所述衔接杆18相连接的限位杆22,两组所述衔接杆18的一端延伸至所述活动块9外与所述固定块一10和所述固定块二11相对应连接;

所述壳体2的顶端设有加热染料箱23,所述加热染料箱23的底端设有与所述染料喷头一12相连通的软管24,所述加热染料箱23内设有搅拌轴25,所述搅拌轴25上设有若干均匀分布的搅拌叶26,所述加热染料箱23的顶端设有与所述搅拌轴25相连接的搅拌组件。

实施例二;

如图1-6所示,所述搅拌组件包括位于所述加热染料箱23顶端的机壳27,所述机壳27内设有固定架31,所述固定架31内设有双轴电机28,所述双轴电机28的底部输出端设有延伸至所述加热染料箱23内并与所述搅拌轴25相连接的输出轴,所述双轴电机28的顶部输出端上设有蜗杆29,所述蜗杆29的一侧设有与其相匹配的蜗轮30,所述蜗轮30的轴心处设有转轴32,所述固定架31的一侧设有与所述转轴32相连接的支架33,所述转轴32的一端设有摆动杆一34,所述摆动杆一34的一侧设有与所述机壳27相连接的摆动杆二35,所述摆动杆二35通过活动轴一分别与所述机壳27和所述摆动杆一34相连接,所述支架33通过轴承与所述转轴32相连接。

实施例三;

如图1-6所示,所述固定架31通过连接轴二与所述机壳27相连接,且所述摆动杆一34和所述摆动杆二35均为倾斜设置,所述斜杆17通过连接轴四分别与所述活动杆一14、所述活动杆二15和所述连接杆20相连接,且所述加热染料箱23和所述机壳27上分别均开设有与所述输出轴相适配的行程槽,所述加热染料箱23内的底端设有滑座36,所述滑座36的顶端开设有滑轨,所述搅拌轴25的底端设有与所述滑轨相匹配的滑块,所述滑块通过轴套与所述搅拌轴25相连接。

实施例四;

如图1-6所示,所述固定块一10和所述固定块二11的一侧均开设有滑槽37,所述滑槽37内设有与其相匹配的移动块38,所述移动块38的一侧设有若干均匀分布的染料喷头二39,所述固定块一10和所述固定块二11的顶端设有气缸40,所述气缸40的一端延伸至所述滑槽37内并与所述移动块38相连接,所述密封门3与所述壳体2的连接处设有密封橡胶垫,且所述基座1的底端设有底板41,所述底板41上开设有若干均匀分布的固定孔。

为了方便理解本发明的上述技术方案,以下就本发明在实际过程中的工作原理或者操作方式进行详细说明。

在实际应用时,打开密封门3将待上彩的青瓷放置于加工室4内的放物槽6上,通过驱动电机7的运行带动转盘5进行旋转,使得转盘5顶部的青瓷进行旋转上彩,而染料喷头一12将加热染料箱23内的染料喷出,进行均匀上彩;而搅拌组件的设计,双轴电机28带动搅拌轴25对加热染料箱23内的染料进行搅拌,避免出现结硬的情况,而双轴电机28在驱动搅拌轴25的同时带动蜗杆29进行旋转,使得蜗杆29带动蜗轮30进行转动,蜗轮30在旋转的过程中通过转轴32带动摆动杆一34进行旋转,使得摆动杆一34带动摆动杆二35进行左右的往复摆动,使得摆动杆二35在运动的过程中推动蜗轮30进行弧形运动,蜗轮30则通过支架33向固定架31施压,使得固定架31能够以连接轴二为轴心进行转动,使得搅拌轴25在加热染料箱23内进行弧形的往复摆动搅拌,大大提高了搅拌效果;当需要调节染料喷头一12的延伸长度时,可通过气缸40的运行带动移动块38在滑槽37内进行下移,使得移动块38上的喷头进行下移,从而延长上彩范围;需要调节若干喷头横向的间距时,可通过电动伸缩杆13的运行带动活动杆一14和活动杆二15下移,使得活动杆一14和活动杆二15拉动斜杆17向中间方向进行转动,斜杆17在运动的过程中带动衔接杆18向中间方向进行移动,而连接杆20与限位杆22的配合设计,使得衔接杆18能够水平的向中间方向进行移动,进而得以调节固定块一10和固定块二11之间的距离。

综上所述,借助于本发明的上述技术方案,通过将密封门3设计为透明材质的塑料或玻璃,可能够清楚的观察青瓷上彩的情况,减少发生上彩失败的情况;而调节组件与固定块一10和固定块二11的配合设计,进而调节固定块一10与固定块二11之间的间距,实现对染料喷头的调节,以达到适应不同尺寸的青瓷,提供装置的普适性;而搅拌轴25与加热染料箱23的配合设计,能够对加热染料箱23内的染料进行搅拌,提高染料稀释性,避免染料在加热染料箱23内结硬造成喷头的堵塞;而搅拌组件的设计,使得搅拌轴25在加热染料箱23内部进行弧形往复的旋转搅拌,大大提高搅拌效果。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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