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一种表面富含缺陷的超薄钯纳米片及其制备方法

摘要

本发明公开了一种表面富含缺陷的超薄钯纳米片及其制备方法,属于新能源、纳米材料、贵金属制备技术领域。本发明通过采用乙酰丙酮钯为金属前驱体,柠檬酸为还原剂,N,N‑二甲基甲酰胺为溶剂,通过优化液相还原反应温度,得到超薄(3‑4个原子层)钯纳米片;然后将新鲜制备的钯纳米片分散于氩气饱和的乙醇或水溶液中,在室温下静置15‑360天,即可得到表面富含缺陷的钯纳米片;通过本发明得到的钯纳米片在高能电子束照射过程中具有优异的结构稳定性,为开发稳定且高性能的钯基催化剂提供一定的技术支撑。

著录项

  • 公开/公告号CN114669753A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华东理工大学;

    申请/专利号CN202210066497.1

  • 申请日2022-01-20

  • 分类号B22F9/24;B22F1/054;B22F1/145;H01M4/92;B01J23/44;B82Y30/00;B82Y40/00;

  • 代理机构北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人崔自京

  • 地址 200030 上海市徐汇区梅陇路130号

  • 入库时间 2023-06-19 15:49:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-28

    公开

    发明专利申请公布

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