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管理临界尺寸误差的方法和制造光掩模的方法

摘要

提供了管理临界尺寸误差的方法和制造光掩模的方法。管理临界尺寸误差的方法包括:(i)在光掩模中限定具有宽度的N个开口,其中,N是自然数;(ii)使用针对N个开口中的每个的曲线图,获得ILSi和Ii,曲线图中的每个通过将通过N个开口中的开口的位置设定为第一轴并且将透射光的强度设定为第二轴而获得,ILSi与在与开口的边缘对应的位置处的对于曲线图中的一曲线图的切线的倾斜度成比例,Ii作为在该位置处的透射光的强度,其中,i是处于从1到N的一自然数;(iii)关于N个开口中的每个,获得开口的实际宽度CDi;以及(iv)当以及时,根据以下等式获得作为关于N个开口中的每个的空间图像掩模误差增强因子的AIMEEFi:[等式]

著录项

  • 公开/公告号CN114660892A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;

    申请/专利号CN202111532171.5

  • 发明设计人 张在爀;金泰俊;宣铉奎;林时庆;

    申请日2021-12-15

  • 分类号G03F1/70;G03F7/20;

  • 代理机构北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人李子光

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 15:46:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-24

    公开

    发明专利申请公布

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