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用于量测应用中的相干性加扰的方法和设备

摘要

披露了一种光瞳整形布置,所述光瞳整形布置用于获得被配置成用于在量测应用中使用的量测照射束的经限定光瞳强度分布。所述光瞳整形布置包括工程扩散器,所述工程扩散器具有被配置成将所述经限定光瞳强度分布施加到所述量测照射束的经限定远场分布。所述光瞳整形布置还可包括多模光纤(MMF),并且被配置成减少相干辐射的空间相干性。

著录项

  • 公开/公告号CN114556224A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN202080071911.7

  • 发明设计人 周子理;乔安科·拉文斯卑尔根;

    申请日2020-09-30

  • 分类号G03F7/20;G03F9/00;G02B27/48;G02B27/09;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王益

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 15:26:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-27

    公开

    国际专利申请公布

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