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一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法

摘要

本申请公开了一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法,其中,一种声光耦合衬底,包括依次层叠设置的衬底层、介质层、声学层和光学层:衬底层的材料包括硅;介质层的材料包括二氧化硅;声学层的材料包括高质量氮化铝,高质量是指在X射线衍射测试中,晶向半高宽小于150弧秒;光学层的材料包括碳化硅。本声光耦合衬底、器件通过直接键合形成,改善了目前利用离子束技术制备硅基碳化硅薄膜的离子损伤的问题,同时实现了硅基高单晶质量的声学器件层和光学器件层的晶圆级异质集成。

著录项

  • 公开/公告号CN114527587A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202210099645.X

  • 发明设计人 欧欣;伊艾伦;

    申请日2022-01-27

  • 分类号G02F1/11;

  • 代理机构广州三环专利商标代理有限公司;

  • 代理人王若愚

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2023-06-19 15:24:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-24

    公开

    发明专利申请公布

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