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一种磁场和电场增强的电弧离子镀长管内壁镀膜方法

摘要

本发明属于材料表面改性领域,涉及一种磁场和电场增强的电弧离子镀长管内壁镀膜方法。通过在电弧离子镀过程中采用磁场约束和控制等离子体束流运动轨迹,在电弧离子镀沉积装置中设置两套磁场发生装置,一套放在真空室外的等离子体传输通道上,即用磁场对等离子体束流进行聚焦,约束等离子体束流传输时的横截面直径和传输效率,另一套放置于真空室内的管状工件外侧,引导等离子体束流沿着管状工件中心轴向方向扩散;在电弧离子镀中利用电场增强是用电场对等离子体实现加速定向流动,是在工件内部设置脉冲电场;利用磁场和电场对等离子体束流的约束和控制,从而实现等离子体在管内壁沉积薄膜的目的,适用于作为服役表面的管状工件的内壁表面镀膜。

著录项

  • 公开/公告号CN102345101B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院金属研究所;

    申请/专利号CN201010244662.5

  • 申请日2010-08-04

  • 分类号

  • 代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司;

  • 代理人张志伟

  • 地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 授权公告日:20130327 终止日期:20130804 申请日:20100804

    专利权的终止

  • 2013-03-27

    授权

    授权

  • 2012-03-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20100804

    实质审查的生效

  • 2012-02-08

    公开

    公开

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