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精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法、装置及电子设备

摘要

本发明提出了一种精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法、装置及电子设备。本发明基于正演模拟,建立了不同角度的尖灭地质模型,分析了不同尖灭角度与地震数据识别误差之间的关系;然后通过这种关系对尖灭线真实位置进行校正与反推。本发明同时充分利用了波形指示模拟反演方法的优势,分析不同井数据参数代表的特定质信息,最终实现薄互层储层分布及厚度的预测。最后充分结合正反演结果及构造解释成果,在纵向上与平面储层范围上共同精细刻画薄互层超覆尖灭储层。此方法在实际资料应用中取得了良好的效果,提高了薄互型超覆尖灭储层的预测精度,证实了方法的实用性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01V 1/30 专利申请号:2020111484916 申请日:20201023

    实质审查的生效

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