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不光洁探测面的水浸探伤方法

摘要

本发明公开了一种不光洁探测面的水浸探伤方法,其特征在于,利用聚焦探头焦柱附近区域声束截面小、能量集中的特点,通过对整个检测截面进行分区扫查,减小每次检测监控的范围,可以在使用较小仪器增益情况下,满足检测灵敏度要求。同时探头焦点附近区域声场所包含的工件体积范围小,减小了超声波与工件组织相互作用的概率,降低表面粗糙及工件组织漫反射所产生的杂波干扰,改善检测信噪比。该方法适用粗糙探测面的水浸检测。

著录项

  • 公开/公告号CN114324613A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 贵州安大航空锻造有限责任公司;

    申请/专利号CN202011054554.1

  • 发明设计人 强超;

    申请日2020-09-29

  • 分类号G01N29/24(20060101);G01N29/28(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 561005 贵州省安顺市西秀区黄果树大街东段322号

  • 入库时间 2023-06-19 14:53:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    公开

    发明专利申请公布

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