组合物、抗蚀剂底层膜、抗蚀剂底层膜的形成方法、经图案化的基板的制造方法及化合物

摘要

本发明的目的在于提供一种可形成耐蚀刻性、耐热性及埋入性优异的膜的组合物、抗蚀剂底层膜、抗蚀剂底层膜的形成方法、经图案化的基板的制造方法及化合物。本发明为一种组合物，其含有具有芳香族烃环结构及下述式(1)所表示的部分结构的化合物以及溶媒，所述芳香族烃环结构的碳数为25以上。