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机译:亚10 nm极端紫外光致抗蚀剂图案化的多尺度仿真方法:聚合物纳米级异质性见识
机译:反应性,含氮杂内酯的聚合物的纳米压印薄膜:结合的细胞基质的地形图案化方法与便利的后加工化学功能化的组合方法。
机译:纳米级FinFET中由间隔物和抗蚀剂定义的图案化技术引起的阈值电压可变性
机译:用金属氧化物EUV光致抗蚀剂(图案化)图案化,抵抗平滑,修剪和选择性剥离
机译:可直接图案化的基于氧化硅的抗蚀剂在高级图案化应用中的新用途。
机译:机械磨损的水溶性剥离抗蚀剂和裸基板的无光致抗蚀剂图案化:朝向透明电极的绿色制备
机译:pH敏感的抗蚀剂材料,用于蛋白质和流体脂质双层的组合光刻图案化
机译:使用中性氧气束在抗蚀剂干式图案化中的氧化物降解效应
机译:光致抗蚀剂组合物,使用该抗蚀剂组合物的薄膜图案化方法以及使用该抗蚀剂组合物的液晶显示面板的制造方法
机译:用于形成能够精细图案化抗蚀剂的上层膜的组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案化方法
机译:抗蚀剂下层膜组合物,制备抗蚀剂下层膜的聚合物的方法以及使用抗蚀剂下层膜组合物进行图案化的方法
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