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一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用

摘要

本发明属于过渡金属配合物的制备领域,涉及一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用。该含单阴离子配体过渡金属配合物的通式为:L(V=O)X2,其中,L为氮负离子配体,X选自卤素,该配合物的制备方法包括如下步骤:配体原料与三甲基氯硅烷反应,得到含三甲基硅基取代的化合物;将得到的含三甲基硅基取代的化合物和等当量的VOX3反应,得到所述含单阴离子配体过渡金属配合物。本发明的优点如下:不需要使用昂贵且危险的烷基锂试剂,得到含氮负离子配体的过渡金属钒配合物,制备工艺路线简单(两步反应),反应条件温和,产率高,成本低。

著录项

  • 公开/公告号CN114292292A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 常州汉韦聚合物有限公司;

    申请/专利号CN202111678155.7

  • 申请日2021-12-31

  • 分类号C07F9/00(20060101);C08F210/16(20060101);C08F210/06(20060101);C08F210/02(20060101);C08F4/68(20060101);

  • 代理机构11218 北京思创毕升专利事务所;

  • 代理人孙向民;廉莉莉

  • 地址 213017 江苏省常州市天宁区和电路6号

  • 入库时间 2023-06-19 14:49:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-08

    公开

    发明专利申请公布

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