一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法

摘要

本发明公开了一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，属于光学镜头防污、抗指纹领域。本发明包括安装在设备上方的蒸发源单体，蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，该真空腔体安装在蒸发源单体的下方，蒸发源接口与真空腔体接驳。本发明采用带旋转机构的蒸发源系统，多套蒸发源系统更换工作，能够使加热器有足够时间冷却并添加药液，实现节拍3～5分钟快速AF(AS)连续镀膜生产，大规模批量化生产成为现实；采用矩阵式AF蒸发源点阵，在确保均匀性及耐磨性前提下，AF药液用量的经济最优化实现。