半导体衬底处理中用于修正方位角不均匀性的旋转的使用

摘要

一种衬底处理系统包含衬底支撑件和控制器。该衬底支撑件包含：升降垫、多个区段以及遍及所述多个区段设置的多个电阻加热器。所述多个电阻加热器包含设置于所述多个区段中的各个区段中的能单独控制的电阻加热器。控制器被配置成：确定设置于所述升降垫上的衬底的旋转位置，选择性地旋转所述升降垫以将所述衬底调整至所述旋转位置，并且基于所述旋转位置而控制所述多个电阻加热器，以选择性地调整所述多个区段内的温度。