温控装置、用于半导体生产的反应装置及温控方法

摘要

本发明涉及本导体生产技术领域，尤其涉及一种温控装置、用于半导体生产的反应装置及温控方法，温控装置包括加热器、控制器、第一温控组件和第二温控组件，加热器与控制器分别通过第一温控组件和第二温控组件连接，第一温控组件包括第一接触器，第二温控组件包括第二接触器和电力调整器，第二接触器和电力调整器连接。本发明提高反应腔温度的控制精度，保证设备运行温度稳定在设定温度，从而提高废气处理设备对废气的处理效率。相较于采用单一的PID控制，当反应腔的温度发生突变时，本发明提高了响应速度。并且采用接触器及电力调整器的成本更低。通过电力调整器线性调节加热器，提高控制精度的同时，还能够延长加热器的使用寿命，节省能耗。