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一种低界面热阻的石墨膜叠层及其制备方法

摘要

本发明电子导热材料技术领域,具体公开了一种低界面热阻的石墨膜叠层的制备方法,具体包括以下步骤:步骤S1:石墨膜表层金属化处理;步骤S2:将表层金属化处理后的多层石墨膜焊接;以及采用本制备方法制备的石墨叠层;本发明通过钎焊实现石墨膜之间的连接,相比胶粘和压接有效的提高了导热性能,使得叠层的界面热阻更低。

著录项

  • 公开/公告号CN114214686A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都四威高科技产业园有限公司;

    申请/专利号CN202111541627.4

  • 申请日2021-12-16

  • 分类号C25D5/54(20060101);B23K1/00(20060101);B23K1/20(20060101);C09K5/14(20060101);C25D5/12(20060101);C25D5/50(20060101);

  • 代理机构51214 成都九鼎天元知识产权代理有限公司;

  • 代理人贾林

  • 地址 611731 四川省成都市高新西区百草路1181号

  • 入库时间 2023-06-19 14:37:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-22

    公开

    发明专利申请公布

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