噻吩单体的制备方法及其在制备聚噻吩防腐涂料中的应用

摘要

本发明属于有机高分子光电材料技术领域，公开一种噻吩单体的制备方法，其以含氟、硅原子团的环丙酰胺类化合物和异硫氰酸酯为原料，依次通过分子间[3+2]环合/水解/还原/脱水/氧化反应，高产率制备含氟、硅原子团的噻吩单体，从而为高性能聚噻吩防腐涂料的研制提供新思路，同时拓展了聚噻吩类单体化合物的筛选库；同时，提供上述方法制备得到的噻吩单体在制备聚噻吩防腐涂料中的应用。