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光谱分析设备、光学系统及方法

摘要

本公开提供了一种光谱分析设备,该光谱分析设备包括:膜,该膜与接受光谱分析的样品接触;第一照射器,该第一照射器照射具有跃迁能量的第一照射光,以分解附着于膜的边界表面上的附着材料;以及光波导,该光波导传输从第一照射器照射的第一照射光。在光波导的前表面上生成基于第一照射光的第一倏逝波,然后使该第一倏逝波投射在附着材料的附着区域上。

著录项

  • 公开/公告号CN114112947A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 横河电机株式会社;

    申请/专利号CN202110987862.8

  • 申请日2021-08-26

  • 分类号G01N21/31(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人施浩

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 14:20:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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