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一种用于匀化基模光强分布的有源光纤及其制备方法

摘要

本发明公开了一种用于匀化基模光强分布的有源光纤及其制备方法,该有源光纤包括由内至外依次排布的光纤纤芯、内包层和外包层,光纤纤芯包括掺有稀土离子的内纤芯和不掺有稀土离子的外纤芯。本发明通过内纤芯掺入稀土离子且外纤芯不掺稀土离子的设置方式,实现了纤芯传输基模光强分布的均匀化,缩小纤芯径向位置之间的功率密度差距,扩大纤芯模场面积,并且利用不掺入稀土离子的外纤芯,使高阶模与掺有稀土离子的增益区域的重叠因子显著降低,达到抑制高阶模增益的效果;同时,也降低了光纤纤芯承受的最高功率密度,从而提高有源光纤的非线性阈值。

著录项

  • 公开/公告号CN114114527A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉长进激光技术有限公司;

    申请/专利号CN202210084541.1

  • 发明设计人 王一礴;徐中巍;胡雄伟;廖雷;

    申请日2022-01-25

  • 分类号G02B6/036(20060101);G02B6/02(20060101);C03B37/018(20060101);

  • 代理机构42231 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黄君军

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳大道52号凤凰产业园(武汉-中国光谷文化创意产业园)B地块5幢1层

  • 入库时间 2023-06-19 14:20:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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