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基于等离子体射流的半导体泵浦亚稳态惰性气体激光系统

摘要

本发明属于激光器技术领域,具体涉及一种基于等离子体射流的半导体泵浦亚稳态惰性气体激光系统,包括供气系统、供电系统、等离子体射流发生装置、射流区、半导体泵浦源和激光谐振腔;本发明基于大气压等离子体射流产生亚稳态惰性气体原子作为激光增益介质,采用大功率半导体激光进行泵浦实现高效率、高功率激光输出,通过气体流动进行高效散热,具有大气压下稳定放电、亚稳态原子浓度高、增益体积可阵列拓展以及系统简单可靠等优点,为实现全电操作、轻量紧凑的新一代超高能激光系统提供一种全新的体系架构。

著录项

  • 公开/公告号CN114122886A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军国防科技大学;

    申请/专利号CN202111401361.3

  • 申请日2021-11-21

  • 分类号H01S3/0933(20060101);H01S3/22(20060101);

  • 代理机构43257 湖南企企卫知识产权代理有限公司;

  • 代理人任合明

  • 地址 410073 湖南省长沙市开福区德雅路109号

  • 入库时间 2023-06-19 14:19:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-01

    公开

    发明专利申请公布

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