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具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品

摘要

本申请涉及具有薄的耐久性减反射结构的无机氧化物制品。一种制品,其包括:具有相对主表面的无机氧化物基材;和布置在基材的第一主表面上的光学膜结构,所述光学膜结构包括以下一种或多种:含硅氧化物、含硅氮化物和含硅氧氮化物,以及约50nm至小于500nm的物理厚度。制品展现出:在约100nm压痕深度测得的8GPa或更大的硬度,或者在约100nm至约500nm的压痕深度范围测得的9GPa或更大的最大硬度,所述硬度和最大硬度通过布氏压痕计硬度测试测量。此外,制品展现出小于1%的单侧适光平均反射率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 3/085 专利申请号:2021115649058 申请日:20190814

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