包括包含具有不同谐振频率的第一LC电路和第二LC电路的感应加热装置的气溶胶生成装置

摘要

一种气溶胶生成装置，其包括：感应加热装置(501)，感应加热装置配置成加热气溶胶形成基质，所述感应加热装置包括：可通过由变化磁场穿透而被加热以加热所述气溶胶形成基质的感受器装置(310)；第一LC电路，所述第一LC电路(510)至少包括第一感应器线圈(512)和第一电容器(514)，其中所述第一LC电路具有第一谐振频率；以及第二LC电路(520)，所述第二LC电路至少包括第二感应器线圈(522)和第二电容器(524)，其中所述第二LC电路具有不同于所述第一LC电路的第一谐振频率的第二谐振频率。感应加热装置(501)进一步示出连接到第一LC电路(510)的第一晶体管(516)，如FET，以及与第二LC电路(520)连接的第二晶体管(526)。第一晶体管(516)配置成用于控制第一LC电路(510)的操作(加热)。第二晶体管(526)配置成用于控制第二LC电路(520)的操作(加热)。一种气溶胶生成系统包括气溶胶生成装置，以及包括气溶胶形成基质的气溶胶生成制品。