公开/公告号CN114078472A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-22
原文格式PDF
申请/专利权人 北京核芯达科技有限公司;
申请/专利号CN202111311597.8
申请日2021-11-08
分类号G10L15/06(20130101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人许曼;刘飞
地址 100095 北京市海淀区西北旺镇丰豪东路9号院中关村集成电路设计园2D楼11层
入库时间 2023-06-19 14:14:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-11
实质审查的生效 IPC(主分类):G10L15/06 专利申请号:2021113115978 申请日:20211108
实质审查的生效
机译: 一种制备用于形成低折射率膜,低折射率膜,光学装置和低折射率膜的光敏树脂组合物的方法。
机译: 一种在电源电压电磁干扰环境下测量电介质表面电导率低值快速变化的方法和执行该测量方法的装置
机译: 一种在电源电压电磁干扰环境下测量电介质表面电导率低值快速变化的方法和执行该测量方法的装置