用于对图案化装置和其他衬底进行表面处理的表面处理设备和方法

摘要

公开了一种表面处理设备和方法，用于对诸如晶片或基板的衬底进行表面处理。该表面处理设备包括一个或多个支撑结构，用于支撑一个或多个衬底，以及一个或多个紫外照明源，被配置为发射紫外照明，并且可操作地处理所述一个或多个衬底的所述至少一个表面，同时所述一个或多个衬底由所述一个或多个支撑结构支撑。一个或多个紫外照明源与曝光源不同，并且不可操作为发射用于曝光晶片上的图案的曝光照明。