公开/公告号CN113955779A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-21
原文格式PDF
申请/专利权人 中化学科学技术研究有限公司;
申请/专利号CN202111305575.0
申请日2021-11-05
分类号C01F7/021(20220101);C01F7/30(20220101);C01F7/308(20220101);C01F7/306(20220101);C01F7/32(20060101);
代理机构11551 北京鼎承知识产权代理有限公司;
代理人夏华栋;顾可嘉
地址 102488 北京市房山区窦店镇交道西街1号院4号楼B座
入库时间 2023-06-19 13:58:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
授权
发明专利权授予
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法